입찰공고상세[물품] · 마감
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다중원소 스퍼터 증착기
유찰 · 광주과학기술원 · 반도체·박막 공정장비
- 결과
- 유찰
- 참가
- 0곳 · 개찰 10/08(목)
요약 AI 요약
위상물질 성장을 위한 전구체 박막을 증착하는 다중원소 스퍼터 증착기를 도입한다. 전이금속 칼코제나이드·전이금속 산화물·칼코젠 등 다중원소 기반 타겟을 사용해 얇고 균일한 박막을 제어하는 장비를 구축한다.
- 메인 챔버 배기 장치(터보 펌프 800리터/초, 로터리 펌프 400리터/분, 게이트 밸브, 자동 압력 제어 스로틀 밸브, 앵글 밸브, 자동 벤트 밸브, 벨로우즈·배기 라인, 클램프·센터링 세트) 1세트
- 마그네트론 스퍼터링 건 3세트(타겟 크기 2인치, 타겟 두께 제어 및 스테이지-건 거리 제어 가능, 공압 셔터)
- 메인 챔버 진공 측정 장치(고진공 이온 게이지 1개, 저진공 대류 게이지 2개, 디스플레이 컨트롤러)
- 고주파 전원 공급 장치 및 정합 회로 3세트(주파수 각각 12.56㎒·13.56㎒·14.56㎒, 최대 출력 600W)
- 가스 공급 장치(질량 유량 제어기 2개, 다이어프램 밸브, 가스 튜브·피팅)
- 메인 챔버(SUS304, 미러 폴리싱, 배기 포트 1개, 가열 스테이지 포트 1개, 뷰 포트 1개, 가스 유입·게이지 포트 4개, 스퍼터 건 포트 3개) 및 기판 스테이지(SUS304, 기판 크기 4인치, 최대 1,000도 SIC 히터, 시료 스테이지 회전)
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사업 내용 · 이 공고에 든 일
중심 · 다중원소 스퍼터 증착기 제조·납품·설치
물품 › 연구·실험·계측장비 › 반도체·박막 공정장비
위상물질 전구체 박막 증착용 스퍼터 증착기(반도체·박막 공정장비)를 제조·납품하고 설치·시운전·표준 RCP 확보까지 지원하는 것이 사업의 중심이다.
- 설치 및 시운전(표준 RCP 확보, 4인치 웨이퍼 두께·조성 균일도 5% 이내 확보 지원)
- 기존 장비 호환·교환 설치 지원
- 사후 장비 관리·점검 지원
- 무상 보증 1년
참가 자격 · 제한
- 업종제한
- 제한 없음
- 지역제한
- 제한 없음
- 공동수급
- 공동수급불허
- 입찰참가 제한
- 모름
- 실적경쟁 · PQ
- 모름
- 국제입찰
- 국내입찰
- 제출 방법
- 전자입찰
입찰 일정
| 진행 | 일시 | 남은 날 |
|---|---|---|
| 공고 게시 | 09/29(화) | 지남 |
| 입찰서 제출 시작 | 10/06(화) 10:00 | 지남 |
| 입찰참가자격 등록 마감 | 10/07(수) 18:00 | 지남 |
| 입찰서 제출 마감 | 10/08(목) 10:00 | 지남 |
| 개찰 | 10/08(목) 11:00 | 지남 |
가격
- 추정가격
- 87,500,000원
- 배정예산
- 96,250,000원
- 기초금액
- 94,300,000원 (예비가격 -2% ~ +2%)
- 낙찰하한율
- 86.245%
- 부가세
- 8,750,000원
- 예정가격 방식
- 복수예가
납품
- 품명
- 진공증착기 (2399039801)
- 수량
- 1 식
- 인도조건
- 설치까지 · 현장설치도
- 제조물품
- 예(직접생산)
- 세부품명 등록
- 등록 필요
공고 정보
- 공고종류
- 등록공고 (일반공고)
- 게시일
- 09/29(화)
- 공고번호
- R26BK01748876-000
- 참조번호
- 내자 2026-185호
- 공고기관
- 광주과학기술원
- 수요기관
- 광주과학기술원
- 계약방법
- 제한경쟁
- 낙찰방법
- 적격심사제
- 계약유형
- 총액계약
- 예정가격 방식
- 복수예가
- 추정가격
- 87,500,000원
- 배정예산
- 96,250,000원
- 사전규격번호
- R26BD00276594
- 재공고
- 아니오
- 출처
- 나라장터
첨부파일
- HWP · 내자 2026-185 - 다중원소 스퍼터 증착기 - 공고문.hwp · 공고규격서
- PDF · 내자 2026-185 - 다중원소 스퍼터 증착기 - 공고문.pdf · 공고규격서
- HWP · 내자 2026-185 - 다중원소 스퍼터 증착기 - 용도설명서 및 상세규격서.hwp · 공고규격서
문서 발췌
| 1. 품 명 | 영 문 | Multi-Element Sputtering System |
|---|---|---|
| 1. 품 명 | 국 문 | 다중원소 스퍼터 증착기 |
2. 규격(성능 및 사양) : 1) Main chamber pumping unit _ 1set - Turbo pump(800 liter/sec) & controller _Chemical type - Rotary pump (400 liter/min)_ Chemical tyep _ Fomblin Oil & Kalrez O-ring - Gate valve (Pneumatic type) & Auto Pressure Control Throttle Valve - Angle valve(High temp.& Kalrez O-ring, pneumatic type, Roughing & Foreline) - Auto vent valve - Bellows & pumping line - Clamp & centering set 2) Magnetron sputtering Gun _ 3set - Target size : 2" dia. ~ Target Thickness Control & Stage – Gun Distance control possible - Pneumatic shutter 3) Vacuum measurement unit for main chamber - High vacuum level : ion gauge, 1ea - Low vacuum level : convection gauge, 2ea - Display controller
4) RF power supply & matching network _3set - Frequency : 각각 12.56㎒ , 13.56㎒ , 14.56㎒ - Max. power : 600W 5) Gas supply unit - Mass flow controller _ 2ea ~ +/- 0.2% accuracy of full scale ( 2 to 20% full scale) - Diaphragm valve _ High Temp. 1/4“VCR type _ 3ea - Gas tube & fitting 6) Main chamber - Material : SUS304 - Surface treatment : Mirror Polishing - One(1) Pumping port - One(1) Heating stage port - One(1) View port with window & shutter - Four(4) Gas inlet, gauge port - Three(3) Sputter gun port 7) Substrate stage - Material : SUS304 - Substrate size : 4" dia. - Max temp. :to 1,000 degreeC ~ SIC Heater - Sample stage Rotation
8) Auto Pressure Controller - Pressure controller - Motor-geared throttle valve (ISO160) - Capacitance manometer (High Temp. type 10 Torr) 9) Control program (Full auto/semi auto) _ 1set - Industrial PC _17"Touch system (i5 CPU) - Auto / Semi control module - System recipe control module - System date file save module / real trend - Connection module to system - System program installation & test run 10) System support frame _ 1set - Main chamber support frame - Electronics rack : 19“ 3. 용도설명 : - 위상물질 성장을 위한 전구체 박막 증착 - 전이금속 칼코제나이드, 전이금속 산화물, 칼코젠 등 다중원소 기반 타겟 사용 - 얇고 균일한 박막 제어를 위한 RF 건 및 기판 온도 제어 시스템 도입 4. 기타 참고사항(기대효과 등) : - 차세대 양자 신소재 박막화 기술 역량 확보 - 신소재의 반도체 적용하여 기술 역량 강화 - 신 소재 박막화 역량을 내재화하여 공동 연구 활성화 및 확장 2026년 9월 11일 부서장(연구책임자) : 신현진 (인)
[별지 3-1] 상세규격서 <개정 2020. 04. 06> 상 세 규 격 서 ⃞ 장비명 : 다중원소 스퍼터 증착기
| 구 분 | 상 세 명 세 | 수 량 | 비 고 |
|---|---|---|---|
| 1. Feature : 2. Specification : ① Main System ② Option Accessory - Standard Acc. - Optional Acc. - 전원 ④ 설치조건 ⑤ 보증기간 납품기한 등 ⑥ 기타 | 1) Main chamber pumping unit _ 1set - Turbo pump(800 liter/sec) & controller ~ Chemical type - Rotary pump (400 liter/min) ~ Chemical type _ Fomblin-Oil,Kalrez O-ring - Gate valve (Pneumatic type) - Auto Pressure Control Throttle Valve - Angle valve _ Roughing & Foreline ~ High temp. Kalrez O-ring ~ Pneumatic type - Auto vent valve - Bellows & pumping line - Clamp & centering set 2) Magnetron sputtering Gun _ 3set - Target size : 2" dia. ~ Target Thickness Control ~ Stage – Gun Distance control possible - Pneumatic shutter 3) Vacuum measurement unit for main chamber - High vacuum level : ion gauge, 1ea - Low vacuum level : convection gauge, 2ea - Display controller 4) RF power supply & matching network _3set - Frequency : 각각 12.56㎒ , 13.56㎒ , 14.56㎒ - Max. power : 600W 5) Gas supply unit - Mass flow controller _ 2ea ~ +/- 0.2% accuracy of full scale ( 2 to 20% full scale) - Diaphragm valve _ High Temp. 1/4“VCR type - Gas tube & fitting 6) Main chamber - Material : SUS304 - Surface treatment : Mirror Polishing - One(1) Pumping port - One(1) Heating stage port - One(1) View port with window & shutter - Four(4) Gas inlet, gauge port - Three(3) Sputter gun port 7) Substrate stage - Material : SUS304 - Substrate size : 4" dia. - Max temp. :to 1,000 degreeC ~ SIC Heater - Sample stage Rotation 8) Auto Pressure Controller - Pressure controller - Motor-geared throttle valve (ISO160) - Capacitance manometer ~ High Temp. type 10 Torr 9) Control program (Full auto/semi auto) _ 1set - Industrial PC _17"Touch system (i5 CPU) - Auto / Semi control module - System recipe control module - System date file save module / real trend - Connection module to system - System program installation & test run 10) System support frame _ 1set - Main chamber support frame - Electronics rack : 19“ 1. 납품 설치 후 표준 RCP 확보 지원 2. Wafer 증착 균일도 확보 지원 - 4” wafer 두께, 조성 균일도 5% 이내 3. 사후 장비 관리 및 점검 지원 4. 기존 장비 호환 및 교환 설치 및 사용 가능 확보 - 모든 파트 교환 설치 및 호환 가능 설계 1. 설치 예정일 : 2026/12/31일 이내. 2. 설치 장소 : 광주과학기술원 대학C동 303호 3. 무상 보증 기간 1년 진공증착기(G2B 세부품명번호: 2399039801)를 제조물품(직접생산증명서)으로 입찰참가자격을 등록한 업체 | ||
| 구매 요구시 | ① 본인은 상기 물품구입과 관련, 상세규격서를 작성함에 있어 정확한 제품사양 및 설치조건, 필요사항 등을 모두 기재하였음(기존 장비 및 물품과의 호환 등 특수조건이 필요한 경우 별지의 물품구매 특수조건을 작성하여 제출함) ② 낙찰 후 상기 상세규격 이외의 추가사항 및 증빙을 요청할 수 없음을 확인함 2026년 9월 11일 부서장(연구책임자) : 신현진 (인) | ||
| 물품 계약시 | ① 낙찰업체의 물품규격과 본인이 요구한 규격의 충족여부 검토 결과, 이상이 없음을 확인함 년 월 일 부서장(연구책임자) : (인) |
=== 내자 2026-185 - 다중원소 스퍼터 증착기 - 공고문.hwp === <공고번호: 내자 2026-185호>
입 찰 공 고
1. 입찰에 부치는 사항 가. 품 명 : 다중원소 스퍼터 증착기 나. 납품기한 : 계약체결일로부터 2026.12.31. 이내 다. 물품대금 지급방법 : 현 금 라. 배정예산 : 금 96,250,000(구천육백이십오만)원(VAT포함) 마. 사양설명 : 게시 용도설명서 및 구매사양서 열람 및 구매요구자에게 문의 ※ 기초금액은 입찰서 제출기간 전에 입력할 예정이오니 확인하시고 투찰하시기 바랍니다. ※ 기초금액 및 입찰금액은 부가가치세를 포함한 금액입니다. 2. 입찰 및 계약방식 가. 조달청 G2B 전자입찰 방식이며, 예정가격 이하로서 낙찰 하한율 이상 최저가격 입찰자 순으로 적격심사 대상 업체로 선정합니다. 나. 제한경쟁/총액입찰입니다. 다. 적격심사대상 물품 구매입니다. - 조달청 물품구매적격심사 세부기준(제4조 제1항 제3호([별표 3])) 라. 청렴계약 대상입니다. 마. 기획재정부 2023년도 공공기관 지정해제 고시(제2023-4호) 관련으로 본 원의 공공기관 지정 해제에 따른 [과학기술원 관리기준]을 적용합니다. 3. 입찰참가자격 가. 본원 계약업무요령 제15조 및 국가를당사자로하는계약에관한법률 시행령 제12조 규정에 의한 유자격자로서 동법 시행령 제76조 규정에 의해 제한받지 않은 업체이어야 합니다.