입찰공고상세[물품]
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울산과학기술원 플라즈마강화원자층증착설비
울산과학기술원 · 반도체·박막 공정장비
- 추정가격
- 2.7억원
- 참가자격 등록 마감
- 10/14(수) 18:00 · D-1
- 낙찰방법
- 규격가격동시입찰
- 참가 자격
- 제한 없음
- 무슨 일
- 플라즈마강화원자층증착설비(PEALD) 공급·설치·시운전·교육·하자보증
요약 AI 요약
울산과학기술원이 뇌 신경망을 모사하는 차세대 뉴로모픽 소자 제작을 위해, 플라즈마 에너지로 나노미터 두께의 원자층을 증착하는 플라즈마 강화 원자층 증착 설비(PEALD) 1식을 구매하는 사업이다.
- 6인치 웨이퍼 대응 산화물 PEALD 챔버(서셉터 히터 최대 400℃, 샤워헤드 최대 150℃, 반자동 1장 웨이퍼 로드락 챔버)
- 가스 공급 모듈(금속 전구체 4라인, 액체 반응물 1라인, 기체 반응물 5라인, MFC 최대 1000sccm, 200cc 캐니스터, 캐니스터 가열)
- 전장·소프트웨어·프레임(iOV ControlPro PC 기반 제어, Device-net 통신, 히터 컨트롤러, 온도·가스·진공 등 시스템 인터록)
- 진공 펌핑 라인(NW40)
- RF 플라즈마 시스템(13.56MHz CCP 방식)
- 오존 발생기(출력 농도 약 220g/Nm3, 산소 유량 5-40LPM, O3 Killer)
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핵심요약
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가격
- 추정가격
- 270,000,000원
- 배정예산
- 299,567,200원
- 기초금액
- 286,000,000원 (예비가격 -2% ~ +2%)
- 부가세
- 27,000,000원
- 예정가격 방식
- 복수예가
첨부파일
- HWPX · 공고서_R26BK01736489(국가, 일반, 규가).hwpx · 공고규격서
- PDF · 공고서_R26BK01736489(국가, 일반, 규가).pdf · 공고규격서
- ZIP · 사양서 등.zip · 공고규격서
납품
- 납품
- 계약 후 180일
- 품명
- 웨이퍼증착적층기 (2321118301)
- 세부품명 등록
- 등록 필요
- 수량
- 1 식
- 인도조건
- 설치까지 · 현장설치도
- 제조물품
- 아니오
참가 자격 · 제한
- 지역제한
- 제한 없음
- 업종제한
- 제한 없음
- 제출 방법
- 전자입찰
- 공동수급
- 공동수급불허
- 입찰참가 제한
- 모름
- 실적경쟁 · PQ
- 모름
- 국제입찰
- 국내입찰
입찰 일정
| 진행 | 일시 | 남은 날 |
|---|---|---|
| 공고 게시 | 09/18(금) | 지남 |
| 입찰서 제출 시작 | 10/13(화) 10:00 | 지남 |
| 입찰참가자격 등록 마감 | 10/14(수) 18:00 | D-1 |
| 입찰서 제출 마감 | 10/15(목) 10:00 | D-2 |
| 개찰 | 10/15(목) 11:00 | D-2 |
평가 · 배점
협상 대상 기준 · 평가위원들의 종합 평점의 평균이 100점 만점에 85점 이상을 득한 업체를 규격입찰 적격 업체로 선정한다.
| 평가 항목 | 배점 |
|---|---|
| 업체 현황(제안 개요 및 제안사 일반현황, 주요연혁, 주요 사업 분야, 기술인력 현황) | 10점 |
| 기업신용도(신용평가등급) | 10점 |
| 공고 규격의 적합성 | 30점 |
| 공정 수행 및 설비 능력 | 30점 |
| 사후 관리(장비 유지보수·인력운영계획, A/S 및 부품수급 용이성, 보증기간 이상 하자보증) | 10점 |
| 추진 계획/교육 훈련(납품·설치 일정표 적합성, 장비 교육 훈련 계획) | 10점 |
| 합계(항목을 더한 값) | 100점 |
사업 내용 · 이 공고에 든 일
중심 · 플라즈마강화원자층증착설비(PEALD) 공급·설치·시운전·교육·하자보증
물품 › 연구·실험·계측장비 › 반도체·박막 공정장비
6인치 웨이퍼용 PEALD 챔버·가스공급·RF플라즈마·O3발생기 등 반도체·박막 공정장비를 제조·납품하고 현장설치·시운전·교육·1년 하자보증까지 맡는 단일 물품 구매다.
- 장비 현장 설치 및 조정(설치·시운전)
- 장비 작동법·유지보수·프로그래밍 교육훈련
- 하자보증 1년 및 결함 시 7일 내 현장 도착·7일 내 수리, 부품 공급
- 제안서(규격·기술) 작성 및 제안발표 대응
공고 정보
- 공고종류
- 등록공고 (일반공고)
- 게시일
- 09/18(금)
- 공고번호
- R26BK01736489-000
- 참조번호
- -
- 공고기관
- 조달청 부산지방조달청
- 수요기관
- 울산과학기술원
- 계약방법
- 일반경쟁
- 낙찰방법
- 규격가격동시입찰
- 계약유형
- 총액계약
- 예정가격 방식
- 복수예가
- 추정가격
- 270,000,000원
- 배정예산
- 299,567,200원
- 사전규격번호
- R26BD00272730
- 재공고
- 아니오
- 출처
- 나라장터
문서 분석 전체
이 분야에서 갈리는 것 · 우리가 만드는 공정 방식·기판 크기인가, 주문제작을 150일 안에 끝낼 수 있나, 기술평가 85점을 넘나, 3년 품질보증을 감당하나에서 갈린다.
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문서 발췌
과업·요구
| 1. 품명 | 플라즈마 강화 원자층 증착 설비 | ||
|---|---|---|---|
| 2. 수량 | 1 SET | 3. 작성일 | 2026년 08월 27일 |
| 4. 물품분류번호 | 23211183 | ||
| 5. 세부사양 (Specifications) | |||
| 가. 장비 특성 및 품질 1. PEALD는 진공 상태에서 플라즈마 에너지를 활용하여 가스 형태의 전구체(Precursor)를 나노미터 두께의 원자층 단위로 증착하는 정밀 무기물 증착을 의미하며, 이는 뇌 신경망을 모사하는 차세대 뉴로모픽 소자의 핵심 층(절연층, 시냅스 활성층 등) 제작에 필수적이다. 2. 전구체(Precursor) 공급부 히터, 반응 챔버 히터, 그리고 플라즈마 발생 장치(RF Generator)가 독립적으로 구성되어 있어, 미세한 변수가 중요한 뉴로모픽 소자 공정의 온도/파워 개별 제어 및 장비 유지 관리가 용이하여야 한다. 3. 플라즈마를 통한 반응성 향상으로 저온 증착 및 박막의 고밀도화가 가능하여, 열 손상을 최소화하면서도 소자 제작에 필요한 다양한 물질(고유전율 산화물, 질화물, 금속, 반도체 물질 등)에 높은 단차 피복성을 가지는 박막 증착이 가능하여야 한다. 4. 데이터 제어 및 관리 시스템을 통하여 실시간 공정 상태(진공도, 온도, 가스 유량 등) 모니터링과 장비 이력 관리가 가능하고, 원자 단위의 초정밀 제어를 위한 공정 레시피 제작 및 수정이 직관적으로 가능하여야 한다. 나. 상세규격 1. Oxide PEALD Chamber 1) Chamber : 6-inch Wafer Al 6061 2) Susceptor heater : Wafer temp ~≤400℃(Max) 3) Showerhead kit : Showerhead kit temp ~≤150℃, Al, Al 6061 4) Manual loadlock chamber : Semi-Automated 1-Wafer Transfer 2. Gas Delivery Ass’y - 4 sets of metal precursor supply lines - 1 set of liquid reactant (ex.H2O) supply lines - 5 sets of gas reactant supply lines. (O2, O3, NH3, H2 N2) 1) MFC Set : Max 1000 sccm 2) Pneumatic valves & Manual valves : KITS(JP) 3) Gauge (Baratron & ATM) 4) Throttle valve : Auto control, NW40 5) Gas lines & other auxiliary parts 6) Canister heating/ Silicon rubber jacket heater/ Max ~≤150℃ 2set 7) 200cc Canister 5set, (레벨센서없음, H2O포함) 3. Electrics & Software & Frame 1) iOV ControlPro S/W (PC Base) 2) Device-net Interface Communication 3) Heater controller 4) System interlock (Temp, Gas, Vacuume, 기타) 5) System Main Power : AC 208V 3φ4W 75A(60Hz) or AC 380V 3φ4W 20A 6) System safety and interlock sensors 4. Vacuum Pumping line(NW40) 5. RF Plasma System : 13.56MHz CCP Type 6. O3 Ozone Generator 출력 농도 약 ~220g/Nm3 / 산소 유량 5-40LPM / O3 Killer 다. 구성품 (악세사리 포함) 1) Oxide PEALD Chamber 2) Gas Delivery Ass’y 3) Electrics & S/W & Frame 4) Vacuum Pumping line 5) RF Plasma system 6) O3 Ozone Generator 라. 장비설치 및 검수 - 장비 설치 및 조정 장비 공급자는 울산과학기술원이 지정하는 시간 및 장소에 장비를 설치하고, 정상 작동을 위해 아래에 요구되는 모든 조건 및 공정 결과를 충족하여야 한다. 마. 교육훈련 - 장비와 관련된 교육은 별도로 울산과학기술원와 협의하여 실시한다. - 다음과 같은 교육은 별도의 협의가 없어도 필수적으로 수행되어야 한다. * 장비 작동법 교육 * 유지보수 교육 * 프로그래밍 교육 바. 하자보증 - 장비의 하자보증 기간은 1년으로 한다. - 하자보증 기간 중 정상적인 작동 상태에서 발생하는 모든 결함은 장비 공급자의 책임 하에 무상으로 수리되어야 한다. 사. 서비스 - 하자보증기간 이내 장비 공급자는 장비의 결함 발생 시 사용자의 요청을 접수한 이후 7일 이내에 현장에 도착하여야 하며 도착 후 7일 이내에 수리작업을 완료하여야 한다. - 부품의 교체가 필요한 경우에는 그 부품의 정확한 공급 가능 시점을 확인하여 울산과학기술원에 통보하고 승인을 받아야 한다. 아. 기타 - 설치 및 시운전 : 공급사 자. 납기 - 계약일로부터 180일 이내 | |||
| 6. Remarks | |||
| (1) 설치 | 공급업체 | ||
| (2) Warranty | 1년 | ||
| (3) Training | 공급업체 |
배점·평가
| 평가 항목 | 산정 방법 | 평점 | 평가 요소 | |
|---|---|---|---|---|
| 일반 부문 (20점) | 업체 현황 | 10점 | - 제안 개요 및 제안사의 일반현황, 주요연혁, 주요 사업 분야, 기술인력 현황 | |
| 기업신용도 | * 붙임 1의 경영상태에 따른 평점표에 따름 | - 신용평가등급 | ||
| 기술 부문 (60점) | 공고 규격의 적합성 | 30점 | - 6-inch wafer 대응 PEALD chamber 및 최대 450 oC substrate heating - 총 10개 precursor/reactant 공급 line 및 4개 liquid canister 구성 - 13.56 MHz, 최대 1 kW CCP RF plasma system 구성 - O3 generator/O3 killer 및 gas·vacuum·pressure 제어 시스템 - PC 기반 control S/W 및 온도·가스·진공 safety interlock | |
| 공정 수행 및 설비 능력 | - Thermal ALD 및 PEALD 공정 수행 능력 - Pulse/purge, gas flow, pressure, temperature 및 plasma 조건 정밀 제어 - 다양한 precursor/reactant 적용 및 다종 박막 공정 확장성 - 박막 증착 균일성, 공정 재현성 및 장기 안정성 - Recipe 작성·저장·관리 및 장비 성능 검증·오염 관리 방안 | |||
| 품질보증 계획의 적정성 (20점) | 사후 관리 | 10점 | - 장비 유지보수 및 인력운영계획 - 유지보수를 위한 A/S 및 부품수급의 용이성 - 제시한 보증기간 이상의 하자보증 | |
| 추진 계획 /교육 훈련 | - 납품 및 설치 일정표 등의 적합성 - 장비 교육 훈련 계획 | |||
| 합 계 | 100점 |
| 평 가 항 목 | 배점 | 평가 | 기타 | |
| 일반부문 (20점) | o 업체 일반현황 - 제안 개요 및 제안사의 일반현황, 주요연혁, 주요 사업 분야, 기술인력 현황 | 10점 | ||
| o 기업신용도 - 신용평가에 따른 경영 상태 | ||||
| 기술부문 (60점) | o 공고 규격의 적합성 - 6-inch wafer 대응 chamber 및 heating system - Precursor/reactant 공급 및 gas delivery system - RF plasma 및 O3 system - Vacuum/pressure 제어, S/W 및 safety interlock | 30점 | ||
| o 공정 수행 및 설비 능력 - Thermal ALD 및 PEALD 공정 수행 능력 - 다양한 precursor/reactant 적용 및 공정 확장성 - 공정 조건 정밀 제어, recipe 관리 및 재현성 - 장비 성능 평가·검증 및 오염 관리 방안 | ||||
| 품질보증 계획의 적정성 (20점) | o 사후 관리 및 추진체계 - 장비 유지보수, 인력운영계획 - 유지보수를 위한 부품수급의 용이성 - 납품 및 설치일정표 등의 적합성 | 10점 | ||
| o 교육훈련 및 기타 제안 - 교육훈련 계획 - 기타 제안 사항 | ||||
| 합 계 | 100점 |
과업·요구
| 총합계금액(합계금액+부가세) : | 일금 영원정 | ( | 297,000,000 | ) | |||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 단위:원(\) | |||||||||||
| NO. | 품목 및 규격 | P/N | 단위 | 수량 | 단가 | 합계금액 | 재고 유무 | ||||
| 1 | . | PEALD Chamber Module | 1 | ||||||||
| 1) Chamber: 6-inch Wafer (Al 6061) 2) Susceptor heater: Wafer temp. ≤450 ℃ (Sus316L) 3) Showerhead kit: Showerhead temp. ≤150 ℃ (Al 6061) | |||||||||||
| 2 | Manual loadlock chamber | ||||||||||
| Manual loadlock chamber: Semi-Automated 1-Wafer Transfer | 1 | ||||||||||
| 3 | . | Gas Delivery Module | |||||||||
| 1) Supply lines: 10 sets - 4 sets of metal precursor supply lines - 1 set of liquid reactant supply lines - 5 sets of gas reactant supply lines 2) MFC set: Max. 1000 sccm, MKS (US or JP) 3) Pneumatic valves & Manual valves: KITS (JP) 4) Liquid canister: 4 set, 200 cc size (Stainless steel 316) 5) Canister heating: 2 sets, Silicon rubber jacket heater, Max. 150 ℃ 6) Gauge (Baratron & ATM): MKS (US) 7) Throttle valve: Auto control, NW40 8) Gas lines & other auxiliary parts | |||||||||||
| 4 | Electrics & S/W | ||||||||||
| 1) iOV ControlPro S/W (PC Base) 2) Device-net Interface Communication 3) Heater controller (Samwontech, Korea) 4) System interlock (Temp, Gas, Vaccme, 기타) 5) System Main Power: AC 208V 3∅4W 75A(60Hz) or AC 380V 3∅4W 75A(60Hz) 6) System safety and interlock sensors | 1 | ||||||||||
| 5 | . | Frame and Vacuum Pumping Line | |||||||||
| Pump 연결 배관 포함 | |||||||||||
| 6 | RF Plasma SYSTEM | ||||||||||
| Matcher & Generator : 13.56MHz ~1Kw CCP Type | |||||||||||
| 7 | O3 Ozone Generator | ||||||||||
| 1) 출력 농도 약 ~220g/Nm3 2) 산소 유량 5-40LPM 3) O3 Killer | |||||||||||
| 소 계(부가세 10% 포함) | - | ||||||||||
| 총 합 계 |