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다중 플라즈마 집속이온빔 시스템 [Multiple Plasma Focused Ion Beam system](재공고)
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끝난 공고 · 결과
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- 붙임1. Notice(2026-131-1).pdf · 공고규격서
- 붙임2. BIDDING SPECIFICATION(양식).hwp · 공고규격서
- Commodity Description.pdf · 공고규격서
- 청렴계약 이행각서.hwp · 공고규격서
- 퇴(재)직자 영입현황 확인서.hwp · 공고규격서
공고 개요
재공고 · 외자 · 대구경북과학기술원 · 기타 연구장비
- 계약업체
- 에프이아이코리아 주식회사
- 계약금액
- USD 1,770,000
- 낙찰하한율
- -
- 참가
- 1곳 · 개찰 09/22(화)
계약
| 계약번호 | 계약일 | 계약금액 | 계약 기간 | 업체 |
|---|---|---|---|---|
| R26TE18860620 | - | USD 1,770,000 | - | 에프이아이코리아 주식회사 (주계약업체 100%) |
| R26TE18763342 | - | USD 1,770,000 | - | 에프이아이코리아 주식회사 (주계약업체 100%) |
요약 AI 요약
이 사업은 다중 플라즈마 집속이온빔 시스템 1세트를 구매하여 초고해상도 FE SEM과 ICP 기반 집중 이온빔을 결합한 장비를 도입하는 것이다. 이를 통해 나노미터 수준의 영상 및 분석, 현장 시료 가공, 정밀 마이크로 가공 등을 수행할 수 있다.
- 초고해상도 전자현미경 영상 획득 (FE SEM)
- 다중 이온種(Xe, Ar, O, N)을 이용한 집중 이온빔 가공 및 분석
- 5축 motorizedステージ를 통한 정밀 시료 위치 및 각도 조절
- 가스 주입 시스템을 이용한 현장 증착/식각 (Pt, W, C)
- 나노맨ipulator를 통한 시료 들어올리기 및 이동 (TEM lamella transfer)
- 통합된 에너지 분산 분광기(EDS)를 통한 원소 정량·정성 분석
사업 내용 · 이 공고에 든 일
중심 · 다중 플라즈마 집속이온빔 시스템 구매
물품 › 연구·실험·계측장비 › 기타 연구장비
FE SEM과 플라즈마 FIB를 결합한 연구·분석용 이온빔 장비로, 이화학 분석기기·전기전자계측·반도체 공정장비 등 어느 세부에도 딱 맞지 않는 연구장비다.
- EDS 시스템 등 부장비 일체
- 설치 감독 및 시운전(commissioning)
- 현장 교육(on-site training)
- 1년 하자보수(warranty)
참가 자격 · 제한
- 업종제한
- 제한 없음
- 지역제한
- 제한 없음
- 공동수급
- 공동수급불허
- 입찰참가 제한
- 모름
- 실적경쟁 · PQ
- 모름
- 국제입찰
- 국제입찰
- 제출 방법
- 전자입찰
입찰 일정
| 진행 | 일시 | 남은 날 |
|---|---|---|
| 공고 게시 | 09/16(수) | 지남 |
| 입찰서 제출 시작 | 09/17(목) 12:00 | 지남 |
| 입찰참가자격 등록 마감 | 09/17(목) 18:00 | 지남 |
| 입찰서 제출 마감 | 09/22(화) 12:00 | 지남 |
| 개찰 | 09/22(화) 13:00 | 지남 |
가격
- 외화 예산
- USD 1,800,000 (배정예산의 통화)
- 예정가격 방식
- 비예가
납품
- 품명
- 주사전자현미경 (4111172001)
- 수량
- 1 SET
- 납품
- 계약 후 365일
- 인도조건
- 모름
- 제조물품
- 모름
- 세부품명 등록
- 모름
공고 정보
- 공고종류
- 재공고 (재입찰공고)
- 게시일
- 09/16(수)
- 공고번호
- R26BK01732587-000
- 참조번호
- DGIST 제2026-131-1호
- 공고기관
- 대구경북과학기술원
- 수요기관
- 대구경북과학기술원
- 계약방법
- 일반경쟁
- 낙찰방법
- 규격가격동시입찰
- 계약유형
- 총액계약
- 예정가격 방식
- 비예가
- 추정가격
- -
- 배정예산
- -
- 사전규격번호
- R26BD00269798
- 재공고
- 재공고
- 출처
- 나라장터
문서 발췌
2. The system enables in-situ large area sample preparation and high resolution imaging and analysis of areas hundreds of microns across to ensure the collection of relevant and representative results 3. The system provides highest performance site specific, high volume material removal for top down deprocessing, cross-sectioning, chunking, fast characterization of nanometer details, best in class TEM sample preparation and precise micromachining in a laboratory environment 4. The system is equipped with a 5-axes motorized x-y-z-rotate-tilt eucentric stage 5. Electron Beam Deceleration for improved low-kV performance, access to ultra-low landing energies (down to 20 V), charge compensation and the balanced topographic and material contrasts.
6. An integrated plasma cleaner(standard) to ensure a clean specimen surface. A clean specimen surface is especially of importance when working at low landing energies, where the deposition rate of hydro carbon is highest and true sample information desired. 7. The system is equipped with a tool for in-situ sample manipulaton and TEM lamella transfer.
Ⅱ. 장비의 구성(Configurations of Goods)
주장비
| 1. | Dual Beam PFIB / SEM Main Body | 1 set |
|---|---|---|
| 2. | Multiple ion gas exchange system (Xe, N, Ar, O) | 1 set |
| 3. | Embedded SW controlled sample lift out manipulator system and rotation | |
| 4. | In-lens detector for SE & BSE | |
| 5. | In-column detectors(low voltage & low loss SE & BSE detector) | |
| 6. | Secondary ion detection with charge reduction system | |
| 7. | Retractable BSE Detector | |
| 9. | High precision 5-axis motorized stage with X, Y, R Piezo Stage | |
| 10. | Gas Delivery system (C, W, Pt) | |
| 11. | CCD-IR Camera | |
| 12. | Embedded plasma cleaner system | |
| 13. | Automated Serial sectioning and imaging software | |
| 14. | 6" Wafer Holder | |
| 15. | Acoustic Enclosure for Pre-vacuum Pump | |
| 16. | Operational Workstation | |
| 17. | Support PC | |
| 18. | 24 inch LCD monitor | 3 set |
| 19. | Manual User Interface | 1 set |
| 부장비2 | ||
| 1. | EDS system (100mm ) | 1 set |
| 2. | Oil free compressor 230 V, 50/60 Hz with 4-liter Tank | |
| 3. | Water chiller | |
| 4. | UPS system |
C. Specification
1. Electron optics (1) Electron Beam Resolution - 0.6 nm at 2 to 15 kV - 0.7 nm at 1 kV - 1.0 nm at 500V - 1.1 nm at 350V (with BD) (2) Accelerating voltage : 350 V to 30 kV (3) Landing energies : 20 V to 30 kV (4) Beam current : 0.8pA ~ 100nA (5) High stability Schottky thermal field emitter (6) Dual mode magnetic immersion / field free lens electron optics with ultra-high brightness schottky emitter and UC monochromator technology 2. Ion optics (1) Differentially pumped, triple lens, focused ion beam optics (2) Source : Multiple ion species inductively coupled gas based plasma (3) Ion species : Xe, Ar, O, N (4) Switching time : < 10min (5) Ion Beam Resolution - 10 nm at 30kV (6) Accelerating voltage : 2 kV to 30 kV (7) Beam current : 1.5 pA to 2.5 uA in 20 step (8) Inductively coupled Xenon (Xe) Gas based plasma
3. Flexible 5-axis motorized stage with X, Y, R Piezo stage (1) X, Y: 150mm (2) Z: 10mm motorized (3) Tilt : -15° ~ +90° (4) Rotation : n×360° (5) XY repeatability 1.0 µm (6) Sample weight 0.5kg (at 0° tilt including sample holder) 4. Gas injection system (1) Pt, W, C 5. NanoManipulator system Embedded SW controlled sample lift out manipulator system and rotation (1) Drift : <50nm / min or less (2) Smallest step size : 50nm or less (3) True Z movement over 5um move :<500nm or less (4) Vibration : <15nm or less (5) Omnidirectional repeatability : <±150nm or less (6) Motorized Rotation 6. Detector (1) In-lens TLD SE and BSE detoector (2) Everhart-Thornley Secondary electron detector (3) Two In-column detectors (4) Secondary ion detection with charge reduction system (5) IR Camera (6) Chamber integrated Navigation camera (7) Retractable solid state Backscatter detector (8) Retractable STEM Detector
7. Scanning system High-resolution digital scanning engine controlled from the user interface (1) Resolution: 512x442, 1024x884, 2048x1768, 4096x3536 pixels (conventional) 768x512, 1536x1024, 3072x2048, 6144x4096 pixels (wide screen) (2) Minimum dwell time: 25 ns / pixel (3) Electronic scan rotation by n x 360 degrees 8. Vacuum system This FIB system must have complete oil free vacuum system (1) 1 x 210l/s turbo molecular drag pump (2) 1 x PVP (dry pump) (3) 4 x IGP (total for electron column & ion column) -6 (4) Chamber vacuum: < 2.6 x 10 mbar 9. Chamber (1) E- and I-beam coincidence point at analytical WD (2) Chamber inner size 379mm(Ø) (3) 21 ports 10. Imaging (1) Displayed in 1536 x 1024 pixels, single or 4 quadrant display(768 x 512 pixels) (2) One of the 4-quad images can be displayed in 2nd LCD monitor (3) Live images are available up to 4 channels (4) Saved image format: TIFF, BMP, or JPEG in 8-bit, 16-bit or 24-bit depth (5) Image printing is available from the user interface (6) Integrated Real-Time Monitor: displays a live image within the pattering window during ion beam patterning. Can provide instant feedback on the ion beam process.
11. Energy Dispersive Spectrometer 2 (1) SDD Detector : 100mm active area (2) Resolution : 129eV or less at MnKa (3) Up to ten times faster than conventional Si detectors (4) Detecting element range : Be(4) to Cf(98) (5) Maximum input count rate > 1500kcps (6) Software : Should be supported quantitative & qualitative analysis, Point & ID, mapping, Linescan, Trumap. 12. System control & software (1) 64-bit Graphical User Interface with Windows operation system, keyboard, optical mouse (2) Microscope Control Computer - Intel Workstation Processor - 2.66 GHz or better- 500 GB system hard drive - 12 GB RAM- Firewire and Ethernet support (3) Three 24 inch LCD displays, WUXGA 1920 x 1200 (4) Support PC with Windows7 & software controller share one keyboard and mouse (5) The stage can be controlled through the user interface