2026년도 실험실습기자재(건식 플라즈마 식각기_기계공학부) 구입

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끝난 공고 · 결과

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• (붙임1) 입찰공고문_2026년도 실험실습기자재(건식 플라즈마 식각기_기계공학부) 구입(재공고).pdf · 공고규격서
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• (붙임3) 제안요청서_건식 플라즈마 식각기_기계공학부.hwp · 공고규격서

공고 개요

재공고 · 유찰 · 국립군산대학교 · 반도체·박막 공정장비

결과

유찰

참가

0곳 · 개찰 07/03(금)

요약 AI 요약

미세유체역학 및 마이크로·나노 소자 제작 연구를 위해 표면 식각, 오염 제거, 표면 활성화 공정이 가능한 진공 플라즈마 기반 표면처리 장비를 도입하는 사업입니다.

• 축전결합 플라즈마(CCP) 방식의 건식 플라즈마 식각기 1식
• 진공 챔버, 파워 모듈, 진공 모듈, 가스 모듈, 컨트롤 모듈 구성
• 10.1인치 이상 터치 PC 제어 시스템 및 공정 레시피 저장 기능
• 질량 유량 제어기(MFC) 기반의 가스 공급 시스템
• 플라즈마 밀도 진단 모듈(랭뮤어 프로브 등) 호환 구조
• 국문 및 영문 사용자 매뉴얼 및 운용 교육 제공

평가 · 배점

협상 대상 기준 · 기술평가 점수가 평가분야 배점한도(100점)의 85%(85점) 이상인 자를 평가적격자로 선정하며

참가 자격 · 제한

업종제한

제한 없음

지역제한

제한 없음

공동수급

공동수급불허

입찰참가 제한

모름

실적경쟁 · PQ

모름

국제입찰

국내입찰

제출 방법

전자입찰

입찰 일정

가격

추정가격

22,200,000원

배정예산

24,420,000원

기초금액

24,420,000원 (예비가격 -2% ~ +2%)

부가세

2,220,000원

예정가격 방식

복수예가

납품

품명

표면처리기 (2321119801)

수량

1 식

납품

계약 후 30일

인도조건

설치까지 · 현장설치도

제조물품

아니오

세부품명 등록

등록 필요

공고 정보

공고종류

재공고 (재입찰공고)

게시일

06/22(월)

공고번호

R26BK01590143-000

참조번호

재무과-9239

공고기관

국립군산대학교

수요기관

국립군산대학교

계약방법

제한경쟁

낙찰방법

규격가격동시입찰

계약유형

총액계약

예정가격 방식

복수예가

추정가격

22,200,000원

배정예산

24,420,000원

사전규격번호

R26BD00231236

재공고

재공고

출처

나라장터

문서 발췌

과업·요구

Ⅰ. 사업 소개 1. 개요 1 2. 목적 1 3. 주요 규격 1 Ⅱ. 제안 안내 1. 추진일정 4 2. 제안자격 4 3. 제안조건 4 4. 공동계약 4 Ⅲ. 제안요청 내용 1. 장비명 5 2. 일반 5 3. 관련 규격 5 4. 시험설비 사양 및 성능 6 5. 설치 및 장비교정 외 일반사항 10 6. 시험설비 운용교육 11 7. 하자 보증 11 8. 기타 사항 12 Ⅳ. 과업관리 1. 과업 수행 조직 13 2. 과업 수행 관리 13 3. 과업조건 13 Ⅴ. 제안서 작성 방법 1. 제안서 작성기준 14 2. 작성지침 17 3. 제안서 제출 18 4. 유의사항 19 5. 제안서 작성 양식 20 【양식】1. 제안서 표지 규격양식 (A4) 21 2. 서약서 양식 22 3. 제안사 일반현황 양식 23 4. 제안사 재무현황 양식 24 5. 보유기술현황 양식 25 Ⅵ. 제안서 평가 및 평가적격자 선정 1. 기본방침 및 기준 26 2. 제안서 평가 절차 26 3. 평가적격자 선정 26

Ⅰ 사업 소개

1. 개요 ◦ 장비명: 건식 플라즈마 식각기 ◦ 배정예산: 24,420,000원(VAT 포함) ◦ 계약방식: 제한(총액)경쟁(규격·가격 동시입찰)

※ 국가를 당사자로 하는 계약에 관한 법률 시행령 제18조 제3항 ◦ 납품기한: 계약 후 30일 이내 ◦ 수요기관: 국립군산대학교 학과 063-469-4727 ·실수요부서: 국립군산대학교 기계공학부 이종완 교수 Tel: 063-469-4715 2. 목적 ◦ 본 사업은 미세유체역학(Microfluidics) 및 마이크로·나노 Lab-on-a-Chip 소자 제작 연구에 필요한 표면 식각(Etching), 오염 제거(Cleaning), 표면 활성화(Surface Activation) 등의 공정을 수행하기 위해 진공 플라즈마 기반 표면처리 장비를 도입하는 것을 목적으로 한다. ◦ 미세 패턴 제작 공정의 신뢰성과 재현성을 향상 시키고, 다양한 바이오칩 및 마이크로유체 소자 개발 연구를 지원하여 관련 연구 분야의 기술 경쟁력과 연구 인프라를 강화하고자 한다. 3. 주요 규격 (하기의 사항에 대해 동등 또는 동등이상일 것) (1) 플라즈마 발생 방식 방식 : Capacitively Coupled Plasma (CCP) type 전극 구조 : Dual Electrode System Max 파워 : 200W 급이상 주파수 : 20~100kHz (2) 챔버 (Chamber) 구조 : 직사각형 또는 원통형 진공 챔버 재질 : Aluminum 또는 Stainless Steel 316L 내부 크기 : 약 150 mm × 200 mm × 140 mm 이상 130mm x 180mm 샘플 처리 공간 확보 구조 플라즈마 균일도를 고려한 전극 구조 플라즈마 밀도 진단측정기 호환 구조 형태 (3) Plasma Power 최대 출력 : 200 W 이상 출력 조절 : 1% 단위로 조절 가능 또는 1W 단위 조절가능 가스별, 압력별 안정적인 플라즈마 발생을 위한 매팅 네트워그 포함 (4) 진공 시스템 진공 펌프 : Dry Pump 또는 Oil Rotary Pump 도달 진공가능시간 : ≤ Base pressure 1.5 x 10-3 ( ≤5min ) 공정 압력 범위 : 760 ~ 10-4 Torr 진공 압력 표시 : Torr 또는 Pascal 표시 (5) 가스 공급 시스템 사용 가스 : O₂, Air 가스 유량 제어 : Precision Mass Flow Control 가스 유량 : 100sccm 이상 Vent Line : 1ea Purge Line : 1ea 안정적인 플라즈마 방전을 위한 가스 유량 제어 기능 포함 (6) 제어 시스템 10.1inch 이상의 Touch PC Control 디지털 제어 방식 공정 변수 설정 가능 Plasma Power, Process Time, Gas Flow, Chamber Pressure 10 이상의 공정 레시피 저장 공정상 이상 시 알람기능 및 알림 리스트 저장기능 (7) 안전 시스템 (Safety System) 진공 상태 미형성 시 플라즈마 발생 차단 가스 유량 미공급 시 플라즈마 전원 차단 기능

과전류 및 과열 보호 시스템 파워제너리터 과전류 또는 이상 온도상승시 차단기능 (8) 장비 특징 연구실 환경에 적합한 Compact Design 균일한 플라즈마 밀도 분포 다양한 샘플 처리 가능 미세 패턴 제작 공정에 적합한 안정적인 플라즈마 (9) 장비성능 ① PDMS Bonding : 20초이내 Bonding 성능 ② Si Wafer : 30초이내 플라즈마처리후 contact angle 10도미만 ③ 플라즈마 밀도 : 1.5x1012 ~ 2.5x1012 이상 ( @50W~200W ) ④ Etching rate (SiO2) : ≥ 100nm/min ⑤ PR Etching rate : ≥ 1㎛/min (9) 장비 크기 장비 외형 : Compact bench-top type 설치 공간 최소화 설계 (10) 전원 입력 전원 : AC 220 V, 60 Hz

Ⅱ 제안 안내

1. 추진일정: 입찰공고에 따름. 2. 제안자격 ◦「국가를 당사자로 하는 계약에 관한 법률」시행령 제12조 및 동법 시행규칙 제14조에 따른 요건을 갖춘 자 3. 제안조건 ◦ 본 제안과 관련하여 제출된 자료는 반환하지 않으며, 본 제안에 따른 제반 비용은 제안자가 부담함. ◦ 제출된 제안서는 발주처가 요청하지 않는 한 수정, 삭제 또는 대체될 수 없음. ◦ 제안서의 모든 기재사항은 객관적으로 입증할 수 있는 관련 증빙서류를 첨부하여야 하며, 제출된 자료 중 일부라도 허위가 있을 경우에는 관련 법령에 의거하여 계약해지(제) 및 부정당업자로 입찰참가자격제한 등의 조치를 받을 수 있습니다. ◦ 본 제안요청서의 결과에 의한 일체의 계약은 「국가를 당사자로 하는 계약에 관한 법률」 등 관련 법규를 준수하여야 함. ◦ 제안서에 제시된 내용은 계약서에 명시하지 않더라도 계약서와 동일한 효력을 가짐. 다만, 계약서에 명시된 경우에는 계약서 내용이 우선하며 제안서 및 계약서에 대한 해석상 이견이 발생한 경우에는 상호 협의하여 결정한다. 4. 공동계약 ◦ 공동 수급 불허

Ⅲ 제안요청 내용

1. 장비명: 건식 플라즈마 식각기 2. 일반(목적) ◦ 본 사업은 미세유체역학(Microfluidics) 및 마이크로·나노 Lab-on-a-Chip 소자 제작 연구에 필요한 표면 식각(Etching), 오염 제거(Cleaning), 표면 활성화(Surface Activation) 등의 공정을 수행하기 위해 진공 플라즈마 기반 표면처리 장비를 도입하는 것을 목적으로 한다. 이를 통해 미세 패턴 제작 공정의 신뢰성과 재현성을 향상시키고, 다양한 바이오칩 및 마이크로유체 소자 개발 연구를 지원하여 관련 연구 분야의 기술 경쟁력과 연구 인프라를 강화하고자 한다. 3. 관련 규격 ◦ 시스템은 아래의 사항을 만족하여야한다. 3.1 시스템 구성 가. 플라즈마 챔버모듈 나. 플라즈마 파워모듈 다. 진공모듈 라. 가스모듈 마. 컨트롤 모듈 3.2 장비 공통사항 가. 제안요청서에서 명기된 사항이 아니더라도 시스템의 정상적인 운영/관리를 위해 필요한 H/W & S/W 들은 반드시 기본으로 포함하여 제안 나. 공급되는 물품에 대한 성능 및 규격은 확인이 가능한 증빙 서류를 제출 다. 제안되는 시스템에 대해서는 제조사가 인증하는 정품의 최신 사양으로 공급하며, 제안 시스템에 대해서는 제조사의 보증서를 제출 라. 3.1의 하드웨어를 운용 관리하기 위한 모든 사항을 포함하여야 하며, 제안되는 모든 사항은 문서화하여 제조사 인증을 함께 제출

마. 유지보수를 위한 방안, 비용 및 제반사항 등과 운영비 등에 대해 상세히 기술된 기술문서 제출 바. 기본적인 하자보수기간은 설치완료일로부터 3년간 보증한다. 별도 제안서 제출 4. 시험설비 사양 및 성능 가. 특징 1) 해당 장비는 진공 분위기에서 플라즈마를 이용하여 산화물, 고분자, 반도체 및 다양한 기능성 소재의 표면에 대해 식각, 오염 제거 및 표면 활성화 처리를 수행할 수 있는 시스템으로, 미세유체 소자(Microfluidics), Lab-on-a-Chip, 바이오칩 및 에너지 소자 제작 공정에서 요구되는 정밀한 표면 개질이 가능하여야 한다. 특히 나노 및 마이크로 패턴 공정에서 요구되는 수준의 균일성과 재현성을 확보할 수 있어야 하며, PDMS, Glass, Si Wafer 등 다양한 기판에 적용 가능하여 초소형·고정밀 소자 제작 연구에 적합한 장비이어야 한다. 2) 미세유체 및 마이크로·나노 소자 연구에서는 표면 상태에 따라 소자의 성능이 크게 좌우되므로, 안정적인 진공 환경에서 플라즈마 처리를 수행할 수 있는 시스템은 필수적이다. 플라즈마를 이용한 표면 처리 공정은 비접촉 방식으로 오염 제거, 표면 활성화 및 미세 식각이 가능하며, 다양한 소재에 적용할 수 있고 공정 시간이 짧아 연구 효율성이 높은 장점을 갖는다. 또한 균일한 플라즈마 분포를 통해 복잡한 형상의 구조체에도 동일한 표면 처리 효과를 제공할 수 있어야 한다.

3) 연구 공정에서 정밀한 플라즈마 처리를 수행하기 위해서는 안정적인 진공 성능과 함께 Power, 가스 유량, 압력 등의 공정 변수에 대한 미세 제어가 가능하여야 한다. 특히 장비는 구동 후 1분 이내에 Base Pressure 4 × 10⁻² Torr 이하에 도달할 수 있어야 하며, 이는 공정의 재현성과 안정적인 플라즈마 형성을 위한 필수 조건이다. 또한 플라즈마의 균일성과 안정성을 확보하고 공정 분석 및 확장을 위해 플라즈마 밀도 진단 모듈(예: Langmuir Probe, mmWave 등)과 호환 가능한 챔버 구조를 갖추어야 한다. 4) 장비는 다양한 기판 및 샘플에 적용 가능하여야 하며, 연구용 소형 샘플부터 실제 공정에 사용되는 기판까지 대응할 수 있어야 한다. 특히 최소 4 inch diameter 기판에 대해 전체 영역에서 균일한 처리가 가능해야 하며, 전극 구조는 4 inch 기준 ±2% 이하의 플라즈마 균일도를 확보할 수 있도록 설계되어야 한다. 이를 통해 대면적 처리에서도 균일한 공정 결과를 확보할 수 있어야 한다. 5) 플라즈마 소스는 장비의 핵심 요소로서, 다양한 가스 조건에서 안정적인 방전이 가능해야 하며, 식각, 표면 개질, 오염 제거 등 다양한 공정에 적합한 특성을 제공하여야 한다. 또한 공정 조건 변화에도 플라즈마의 안정성이 유지되어야 하며, 반복 공정 수행 시에도 일관된 결과를 제공할 수 있는 높은 재현성을 확보하여야 한다.

6) 본 장비는 PDMS Bonding, Si Wafer 표면 처리, PR 제거 및 SiO₂ 식각 등 다양한 공정에서 요구되는 성능을 충족하여야 하며, PDMS Bonding은 20초 이내 수행 가능하여야 하고, Si Wafer 처리 시 30초 이내 Contact Angle 10도 이하를 달성할 수 있어야 한다. 또한 SiO₂ 식각 속도는 100 nm/min 이상, PR 식각 속도는 1 ㎛/min 이상의 성능을 확보하여 연구 및 공정 적용이 가능하여야 한다. 7) 장비의 운용 안정성과 연구의 지속성을 확보하기 위해서는 설치, 시운전 및 사용자 교육이 포함된 기술 지원이 제공되어야 하며, 신속한 유지보수 대응과 안정적인 사후관리 서비스 체계를 갖춘 업체에서 공급되어야 한다. 특히 진공 장비 및 플라즈마 공정에 대한 충분한 경험과 기술력을 보유한 업체를 통해 장비의 품질과 신뢰성이 보장되어야 한다. 나. 상세규격 1) 진공챔버 - 챔버재질 : AL6061 - 실링방식 : O-Ring Sealing - View Port 재질 : 강화유리 ( Tempered Glass ) - 챔버크기 : 150(W) X 200 (D) x 140 (H) mm 이상 - 구조 : 모듈 분해 및 유지보수용이구조 - 절연/차폐 : Teflon Shielding - 구조 : 균일한 가스 input /output 설계 ( 균일도 확보 ) 표면처리 균일 ±5% 이내 - 관람창 : 130mm x 1 Port - 플라즈마 진단 Module 호환 Port 포함 - 챔버 두께 : 10T 이상 - 용접부 없는 One-body Machining 구조 - O-Ring : 진공용 FKM

2) 진공 펌프 시스템 - Oil Rotry Vane Pump - 최저도달압력 (Ultimate Pressure): < 1.5 x10⁻³ Torr - Pumping speed : 238L/min 3) 플라즈마 파워 출력/제어 성능 - 출력 가변 제어 : 0 ~ 100% 연속 제어 가능 - Frequency: 20~100kHz - 유효 출력 범위 : 최소 3 W ~ 최대 200 W - 출력 제어 해상도 : ±1% 이내 - 출력 정확도 : 설정 출력 대비 ±5% 이내 - 출력 반복성 : 동일 조건 반복 시 ±3% 이내 4) 가스 공급 모듈 ① 프로세스 가스 라인 - 사용 가능 가스 : O₂ 또는 Air - MFC 제어 범위: 0 ~ 100 sccm - MFC 정확도: ±1% of Full scale - MFC 반복성: ≤ ±0.2 % F.S - MFC 선형성 :≤ ±0.5 % F.S - MFC 응답 시간: ≤ 1.5sec(F.S) - 작동 온도 : 5 ~ 50℃ - 가스 퍼지(Purge): N₂ 또는 불활성가스 퍼지 라인 1channel 이상 - Vent 라인: 진공 해제용 Vent 1channel 이상 - 가스 채널 : 4개이상 Port (사용자가 가스 종류 지정 가능) - 추가 가스 라인 : 향후 업그레이드를 위한 예비 가스 라인 3개 - 가스 흐름 제어 : MFC(질량 유량 제어기)로 제어 - 재질 : 1/4" Swagelock Fitting이 포함된 스테인리스 스틸 가스 라인

② 퍼지 라인 - 퍼지 라인: 1개 (사용자가 지정 가능 - 질소, CDA, 공기 등) - 재질 : 1/4" Swagelock Fitting이 포함된 스테인리스 스틸 가스 라인 ③ 배기 라인 - 배기 라인: 1개 (사용자가 지정 가능 - 질소, CDA, 공기 등) - 재질 : 1/4" Swagelock Fitting이 포함된 스테인리스 스틸 가스 라인 ④ 가스 매니폴드 블록 - 입력 : 4개 / 출력: 1개 - 1/4" Swagelock Fitting 표준 적용 5) 진공밸브 - 밸브형식 : 상시닫임 ( 가압열림. 스프링 Seal ) - 사용가능온도 : 5~100°C - 사용압력 : 1×10-5 〜 대기압 - 컨덕턴스 L/s : 300 - 누설량 ( Pa * ㎥/s ) 내부: 1.3×10-10 상온시 가스투과률 제외 외부 : 1.3×10-11 상온시 가스투과률 제외 - 재질 : 본체 알루미늄 합급, 주요부; 스테인리스 FKM - 표면처리 : 외부 경질 아노다이징, 내부 무처리 7) 진공 게이지(1) - 챔버 압력 모니터링을 위한 진공게이지 구성 - 측정 범위(공통 핵심): 760 Torr ~ 10⁻⁴ Torr 수준의 진공 측정이 가능 해야 함.

9) 제어 시스템 - 제어 응답 시간 : ≤ 100 ms - 제어 해상도 : 압력 : 0.01 Torr, 유량 : 1 sccm, 출력 : 1% - HMI 크기 : ≥ 10.1 inch - 터치 응답 시간 : ≤ 200 ms - 로그 기록 간격 : ≤ 1 sec - 데이터 백업 : USB 또는 Ethernet 1개 이상 - 운전 모드: Automatic / Manual - 레시피 운전: 레시피 저장/호출 ≥ 10개 - 이상 발생 처리: 즉시 파워차단 + 공정 중지,Gas 이상: 가스차단 + 알람 - 인터락 응답시간(감지→정지/차단): ≤ 1s - 연속 운전: 8h/day 연속 운전 가능 구조 - 공정 파라미터: 압력 / 가스 유량 / 플라즈마 출력 / 공정 시간을 독립적 으로 설정 가능 - 공정 시간 설정 범위: 1 ~ 1,800sec(또는 1 ~ 30 min)설정 가능하여야 함 - 압력 이상 시 자동 정지 - 과전류 차단 - 과출력 차단 - 설정된 시간내 압력 미 도달시 알람 - 파워 출력 차폐 구조 적용 5. 설치 및 장비교정 외 일반사항 5.1 제안사는 장비 발주에서부터 입고, 설치 및 운용 교육까지 전체 Turn-key 방식으로 제안 범위 내의 설비를 일괄 납품하여야 한다. 5.2 입찰자는 제시된 구매 목적에 적합하게 입찰서를 작성하고 그 내용을 입증하는 근거 자료를 입찰서와 함께 제공하여야 한다. 5.3 제안사는 제안하고자 하는 설비에 대한 사양, 가격, 보증기간, 납품기간 등이 명기된 세부 설명 자료를 제출하여야 한다. 5.4 국립군산대학교는 제안사가 제출한 제안서의 내용이 발주기관의 구매사양을 만족하지 않는 경우 기술능력상 적임자가 아니라고 판단할 수 있다. 5.5 계약자는 설비를 납품 설치된 장소에서 연구원이 지정하는 장소로 1회에 한하여 이전하는 설치를 포함하여 제안하여야 하며, 이전 시 필요한 부대 설비(크기, 전원사양, 접지사양 등)에 대해서는 장비설치 시 문제가 없도록 미리 발주기관과 협의하여야 한다. 5.6 계약자는 국립군산대학교 담당자 입회하에 설비 입고, 설치 및 시운전을 하여야 한다. 만약 장비 설치 시 제안사의 부주의로 새 장비 또는 기존 장비의 고장이 발생했을 시 제안사는 장비가 정상 동작하도록 원상 복구를 하여야 하며 모든 비용은 제안사가 별도로 부담하여야 한다. 5.7 공급되는 장비와 부속품은 제시규격에 적합하여야 한다. 5.8 계약자는 본 구매사양의 대안을 제시할 수 있으며, 이 경우 본 성능 대비 동등 또는 그 이상임을 입증할 수 있는 자료를 제출하여 승인을 득하여야 한다. 5.9 계약자는 측정 및 운용 프로그램을 책자으로 제공하여야 하며, 사용자매뉴얼은 국문 및 영문본으로 제공하여야 한다. 운용 프로그램의 사용권은 국립군산대학교에게 있다.

가. 장비를 운용하는 과정에서 시스템 기본 구성의 변경을 요하지 않는 소프트웨어의 재구성 설치, 데이터의 변경 또는 추가 등의 요구가 있을 경우에는 이를 적극 지원해야 한다. 나. 장비의 하드웨어 또는 소프트웨어의 업그레이드가 필요한 경우에는 이를 지원해야 한다. 다. 설치 종료 후 사용 중 요구사항과 일치하는 않는 경우에는 즉시 규격과 부합하도록 장비를 Modify 하여야 한다. 5.11 계약자는 시스템의 설치 전에 상세한 설치 사양 및 구성도를 제출하여야 하며, 국립군산대학교의 승인을 득하여야 한다. 5.12 설비의 성능평가 제안하는 설비에 대해 제안사가 직접제조, 혹은 한국지사가 아닌 대리점일 경우 직접제조사, 혹은 한국지사의 대리인 승인서를 첨부한다. 5.13 제안서 작성 시 주요 부품의 제작사 및 사양을 반드시 명기해야 한다. 5.14 최종 검수 시 주요 부품은 품질보증을 위한 서류를 함께 제출해야 한다. 5.15 발주자의 요구에 따라 설비 설계도면에 대한 제3자 검토요청이 있을 시 제안사는 이를 제출하여야 하며 필요 시 승인 위원회를 실시할 수 있다. 6. 시험설비 운용교육 장비운용교육, 보수교육은 장비가 설치된 장소에서 진행하되 교육 자료를 미리 배포한 후 장비운용교육을 실시하여야 하며, 계약자는 장비운용교육계획서를 제출하여야 한다. 7. 하자 보증 - 무상 보증 기간: 설치완료일로부터 3년

1) Service: service 요청시 24시간내에 현장 도착, service에 대응함. 2) 도면 및 사양관련 제작서를 제출하여, 승인 절차를 거쳐야 함. 3) Setup 완료 시점부터, 3일간 매일 2회 이상 공정 진행 후 매일 2회 공정 결과에 대하여, 담당자와 확인하여, 공정 최적화 검증을 실시한다. 이 후 4주간 매주 1회 이상 공정 진행 후 효율성 및 공정 재현성 검증을 실시한다. 4) 공급 계약회사는 장비 설치 후 지속적으로 사용자의 요청에 의한 방문 기술 지원이 가능한 인력을 보유하고 있어야 한다. 8. 기타 사항 8.1 본 사양서의 모든 내용에 대해 해석상 분쟁이 있을 경우 상호 협의 하에 결정한다. 8.2 장비의 모든 부품과 특성은 제조회사에서 보장하는 정품을 사용하여야 한다.

Ⅳ 과업 관리

1. 과업 수행 조직 ◦ 본 과업을 수행할 추진조직․인원 구성 및 수행 인력에 대한 상세 이력사항 제시 2. 과업 수행 관리 ◦ 작업 일정 계획 - 본 장비 구축 수행을 위한 일정 계획을 상세히 제시 ◦ 장비구축 작업 관리 - 본 장비 구축 수행절차의 체계적 관리를 위한 세부작업 내용을 제시 - 과업 추진과정에서 요구되는 변경사항의 관리방안 및 지속적으로 문제를 파악 관리할 수 있는 방안을 제시 ◦ 진행사항 보고 및 협의일정 - 본 과업 추진 중에 이루어져야 할 각종 보고계획을 상세하게 제시 - 본 과업 추진 중에 이루어져야 할 각종 협의(정기․수시), 일정 제시 3. 과업 조건 ◦ 일반요건 - 계약자는 장비를 제작 및 설치함에 있어서 발생하는 저작권, 사용권, 초상권 또는 특허 등의 문제에 대한 책임을 져야하며, 발주처는 어떠한 책임도 지지 아니함. - 예기치 않은 여건의 변화로 과업에 대한 일부의 변경 및 추가요구사항이 발생될 경우에는 발주처와 계약자가 상호 협의하여 변경함. - 발주처는 본 과업 수행 중 투입인력에 대해 교체를 요구할 수 있으며, 계약자는 발주처의 허가 없이 교체할 수 없음. 다만, 퇴직 또는 질병 등 부득이한 사정으로 변동사항 발생 시에는 발주처의 승인 후 교체하여야 함. - 본 과업과 관련하여 취득하게 된 모든 정보는 일체 외부 유출 또는 누설을 금함. - 본 과업을 수행 중에 발주처로부터 제공받은 제반 자료 일체는 본 계약의 목적 외에는 절대 사용할 수 없음.

배점·평가

과업·요구

A. 특징(Feature) 축전결합 플라즈마 방식의 높은 플라즈마 밀도를 보장하며, 반도체 기판 표면처리 및 플라즈마 에칭, 접합과 오염물제거 등이 가능한 플라즈마 시스템. ✔ 컴팩트한 사이즈의 장비이지만 유량조절기(MFC)와 Pirani Gauge, 300W 이상 고출력 제너레이터 등의 구성요소들을 임베디드 시스템을 통해 정밀 조정. ✔ 10.1“ 대화면 터치스크린을 통해 쉽게 공정조건들을 입력하고 전반적인 공정상황 제어 및 모니터링이 가능하며, 사용자가 지정한 공정 Recipe대로 운용할 수 있어 교육용 연구장비로서 최적화. ✔ 랭뮤어 플라즈마 진단서를 포함하고 실제 측정이 가능하여 균일도와 재현성까지 보장. ✔ 플라즈마 진단 랭뮤어 프로브 연결 가능한 장비. ✔ 플라즈마 제너레이터 내부온도는 장비 운전프로그램 화면에서 실시간 디지털값으로 표시되며 사용자는 운전중에도 온도 변화를 지속적으로 모니터링 함.0 ✔ 제너레이터 설정온도 이상 발생 시 자동알람 신호를 출력하고, 장비 보호를 위해 운전 중 자동 중지 기능 ✔ 압력 Display 는 Torr 또는 Pascal 로 가능함. B. 규격 및 사양(Specification) ✔ 진공챔버 내부크기 : 150 x 200 x 140mm (WxDxH) 이상 ✔ 전극구조 : 축전결합형 (반응성이온식각과 플라즈마식각 모드 모두 지원하는 평행한 2중 전극) ✔ 전극간거리 : 70mm 이상 ✔ 관람창 : 130mm 이상 ✔ Electrode chuck size : 110mm 이상 ✔ 플라즈마 전원공급기 주파수 : 50kHz ✔ 출력 : 최대 300W 이상 ✔ 플라즈마 이온밀도 : 1.5 x 1012 ~ 2.5 x 1012 (@50W ~ 200W) 이상 ✔ 압력제어장치 : ≤Base Pressure 1.0 x 10-3 Torr (≤ 5min) ✔ Vacuum Gauge : Atm ~ 1.0 x 10-4 Torr ✔ 진공펌프 펌핑 용량 : 238L/min@60Hz , 200L/min@50Hz 이상 ✔ 진공펌프 최저도달압력 : 1.5 x 10-3 Torr ✔ 가스공급라인 : 최대 3 x 채널 이상 ✔ 가스종류 : 산소 ✔ 가스공급조절 : Mass Flow Controller ✔ 조절유량 : 최대 100sccm ✔ 퍼지라인과 벤트라인 : 각각 1채널 가지며 외부에서 Speed Controller 연결가능 ✔ 컨트롤러 : 10.1인치 터치스크린 이상 ✔ 진공펌프 터치스크린에서 전원제어 ✔ 모든 공정요소 조정 및 실시간 비상감지 및 안내 ✔ 레시피기반 전자동모드와 매뉴얼모드 ✔ 파워제너레이터 내부온도센서와 장비제어프로그램간의 직접연동 ✔ 메인시스템 외관크기 테이블맞춤 : 390mm x 555mm x 610mm (WxDXH) 이하 C. 악세사리(Accessory) ✔ 메인 플라즈마 시스템 x 1세트

✔ 진공펌프 x 1세트 ✔ 펌프와 시스템 연결 및 피팅 부품 x 1세트 ✔ 랭뮤어 플라즈마 진단서 x 1부 ✔ 매뉴얼북 x 1권 ( 국문, 영문 ) ✔ 샘플트레이 x 1세트 ✔ 전원케이블 x 1개 ✔ 오일미스트트랩 x 1개 D. Optional Acc or Recomended S/P (선택부속 또는 추천부속품) ✔ Vacuum Oil (Fomblin) ✔ 유량 스피드 컨트롤러 ✔ 건식 펌프 E. 기타조건(Remarks) ✔ 장비의 무상 보증 기간은 설치완료일로부터 3년 ✔ 장비의 설치와 작동법 교육은 장비 납품 및 설치완료 시 수행 ✔ 수요기관 설치 장소에 설치 가능 여부 확인 및 직접 설치 ✔ 기타 규격문의는 담당자에게 문의 ✔ 납풒기간: 계약 후 30일 이내 ✔ 규격서에 정한 규격과 동등하거나 그 이상의 사양이어야 한다. ※ 규격 문의 - 요구 교수: 이종완 연락처: ☎ 063-469-4715 === (붙임1) 입찰공고문_2026년도 실험실습기자재(건식 플라즈마 식각기_기계공학부) 구입(재공고).hwp === 물품 입찰 공고(재공고) 국립군산대학교 공고 2026-76호 다음과 같이 입찰에 부치고자 재공고합니다. 2026. 6.ㅇ 국립군산대학교 재무관ㅇ

참가자격